第1099节 (第1/3页)

    ??“了不起啊，小陆，你们了不起啊。”

    ??沙领导满意道：“我记得是7年前还是8年前，也是在这里，你让我看的是65nm干式光刻机，还向我保证绝对能搞出属于我们自己的国产的浸润式光刻机，我本来以为要花10年甚至更长的时间，没想到你给了我们一个大大的惊喜啊！这么快让你们搞出来了！”

    ??“哪里，哪里，领导。”

    ??陆飞露出谦虚而内敛的笑容。

    ??“说说吧，到底是怎么搞出来的？”

    ??沙领导眼里满是赞赏之色。

    ??“其实这并不是逻辑和中微两家的功劳，我们只负责整体的统筹调度和集成研发。”

    ??陆飞笑道：“duv浸润式光刻机能成功，完完全全归功于参与到整个项目的全体员工、科研人员们，是他们的血汗和信念，才有了今天的光刻机，当然也离不开领导们的支持，地方上的政策，还有相关公司、院校、国企单位的合作。”

    ??顿了顿，“可以说，这台duv浸润式光刻机凝结了华夏半导体从业人员的智慧和野心，也代表着目前国内光刻机的最高水平，距离国际一线的euv光刻机，只有一代的代差了。”

    ??“生产7nm的良品率是多少？”

    ??郑韩脸上挂着得意的笑容。

    ??毕竟，如此国之重器出自张江技术园区，沪市毫无疑问当得上“华夏半导体之都”。

    ??“不同的芯片不同的良率，但基本能稳定在70％，慢慢调试改进，可以达到80％。”

    ??陆飞比比画画道：“完全可以比肩amsl，只用4个光罩、4次曝光，就可以达到7nm制程工艺。”

    ??沙领导问道：“现在逻辑和华为的手机用的都是7nm制程工艺的芯片对吗？”

    ??陆飞点了下头，“没错，7nm是目前市面上最先进的制程工艺，不过根据摩尔定律，再过个一两年，就可能突破到5nm。”

    ??“5nm是不是就需要euv光刻机了？”

    ??郑韩好奇道。

    ??“有euv光刻机固然是好，只要一次曝光，一个光罩就能实现7nm、5nm，但没有euv光刻机也无妨，有这台duv浸润式光刻机也可以做到。”

    ??陆飞露出个看似轻松的笑容。

    ??“喔？”

    ??顷刻间，一众领导的目光齐聚于他。

    ??“梁博士想到的方案，如果把光刻机极限使用，经过6个光罩，9次曝光，也可以实现5nm工艺。”陆飞直截了当地回答。

    ??一个戴着玳瑁眼镜的领导担忧道：“光刻机这么极限使用，会不会影响到使用寿命？”

    ??“还有良率。”

    ??“是啊，经过这么多道曝光，任何一道工序失败，都可能满盘皆输，成本就上来了……”

    ??领导们来回分析，议论纷纷。

    ??陆飞只能一一回答，“损害寿命肯定会损害，良率低也肯定会低一些，成本自然也就会高一点，但这是没有办法的办法，目前euv光刻机国产化要实现彻底突破，还有不少技术难题摆在面前，需要时间去攻破。”

    ??“比如呢？”

    ??沙领导投去问询的目光。

    ??“光刻机的技术难点主要集中在光源、反射镜、工作台，现在双工作台已经解决了，光源问题也突破了，就剩下物镜系统。”

    ??陆飞直说道：“amsl、尼康的光刻机用的是蔡司的技术，但蔡司愿意卖给amsl、尼康，但绝对不会